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首頁 >> 產(chǎn)品中心 >>默認分類 >> 鉻霧抑制劑
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鉻霧抑制劑

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生產(chǎn)應(yīng)用

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目前我國生產(chǎn)和應(yīng)用的鉻霧抑制劑主要有:F-53鉻霧抑制劑(全氟烷基聚氧乙烯醚磺酸鉀)、FC-80鉻霧抑制劑(氟辛基磺酸鉀)、ZM-830非氟型鉻霧抑制劑等。鍍鉻液中加入0.04g/LF-53鉻霧抑制劑,就可以抑制鍍鉻過程中鉻霧逸出,與使用排風機和鉻霧回收裝置去鉻霧相比,可節(jié)約鉻酸30%左右。
鉻霧抑制劑”是碳鏈>2的磺酰氟加工而制得。代表性的產(chǎn)物為全氟辛基磺酸四乙基銨鹽。國外代號為FC-248。它在水中的可溶性極好,可達100%,而且可以溶于乙亞甲基磺胺等有機溶劑,外觀近乎白色的結(jié)晶,熔點在170~190℃,有很高的表面活性。以測量水狀溶液表面張力而表觀,在每公升水中加入250mgFC-248,使水的表面張力由72mN/m(即>72dyn/cm)下降到最大22.6mN/m,相對其他含氟表面活性劑,無論是用量和作用時間、性能都是最優(yōu)秀的。

優(yōu)良特性

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鉻霧抑制劑是以Intechem系列氟碳表面活性劑配制而成,對鉻酸霧有良好的抑制效果,并且具有耐強酸、耐高溫、耐強氧化劑等優(yōu)良特性。
1、本品主要用于電鍍液的鉻霧抑制,可有效地抑制鉻霧逸出,免去排風裝置和鉻霧回收裝置,保護操作工人的健康,此外,也可作為其他酸、堿性鍍槽或電解槽的抑霧劑。
2.1● 低鉻工藝深鍍能力提高1倍,分散能力提高30-60%。
2.2● 可使空氣中的鉻霧含量降至0.005-0.002mg/m3,低于國家0.05g/m3標準。
2.3● 低鉻工藝電流效率提高60-110%,電流效率一般在20-30%。
2.4● 中性鹽霧試驗提高2-3級,耐腐蝕性好。
2.5● HV硬度提高30-60%,一般在HV1000-1260。
2.6● 鉻酸節(jié)約60-85%,鉻層耐磨性提高2-3倍。
2.7● 節(jié)電節(jié)能60-85%,整流器電源設(shè)備使用壽命延長一倍。
2.8● 鉻廢水濃度只有高鉻的10-20%,節(jié)約處理費用65%以上。
2.9● 無電鍍區(qū)腐蝕,無放射性污染,重金屬雜質(zhì)積累速度低。
0.5

0.4

0.3

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